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Für eine optimale materialographische Probenpräparation ist das Endpolieren mit unseren... mehr
Produktinformationen "Silica-Suspensionen, verschiedene Ausführungen und Gebindegrößen"
Für eine optimale materialographische Probenpräparation ist das Endpolieren mit unseren Silica-Suspensionen zu empfehlen.
Wir haben eine große Auswahl an diesen Silica-Suspensionen, die auf verschiedene Aufgaben bei der Endpolierung verschiedener Materialien abgestimmt sind:
- ein einzigartiges System zur Verhinderung von Kristallbildung:
- Wasserverdampfung wird verringert
- gefällte Kristalle werden wieder aufgelöst
- die Lebensdauer des Poliertuchs wird verlängert
- Artefakt freies Ergebnis (Entwicklung des wahren Gefüges)
- unterschiedliche Kornstrukturen: Körnungsverteilungen von 0,2 µm bis 0,05 µm (200 nm bis 50 nm)
- wasserfreie Suspension: statt Wasser Äthandiol > rein mechanische Wirkung
Art: | Suspension |
Weiterführende Links zu "Silica-Suspensionen, verschiedene Ausführungen und Gebindegrößen"
Verfügbare Downloads:
- Download Colloidal Basisch 50nm Sicherheitsdatenblatt DE
- Download Colloidal Basisch 50nm Sicherheitsdatenblatt EN
- Download Fumed Basisch 200nm Sicherheitsdatenblatt DE
- Download Fumed Basisch 200nm Sicherheitsdatenblatt EN
- Download Fumed Wasserfrei 200nm Sicherheitsdatenblatt DE
- Download Fumed Wasserfrei 200nm Sicherheitsdatenblatt EN
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